產(chǎn)品中心PRODUCT CENTER
在發(fā)展中求生存,不斷完善,以良好信譽(yù)和科學(xué)的管理促進(jìn)企業(yè)迅速發(fā)展首頁(yè)-產(chǎn)品中心-安徽格林達(dá)蝕刻液聯(lián)系方式
????因此存在開發(fā)蝕刻液組合物時(shí)會(huì)過(guò)度耗費(fèi)時(shí)間和費(fèi)用的問(wèn)題。美國(guó)公開**第2號(hào)公開了在3dnand閃存的制造工序中,對(duì)于硅氧化物膜和硅氮化物膜*選擇性蝕刻硅氮化物膜的蝕刻液組合物。然而,為了選擇構(gòu)成成分的種類和濃度,不得不需要測(cè)試蝕刻液組合物的蝕刻性能,實(shí)際情況是,與上述同樣,仍然沒有解決在找尋蝕刻液組合物的適宜組成方面過(guò)度耗費(fèi)時(shí)間和費(fèi)用的問(wèn)題?,F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)**文獻(xiàn)**文獻(xiàn)1:美國(guó)公開**第2號(hào)技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:所要解決的課題本發(fā)明是為了改善上述以往技術(shù)問(wèn)題的發(fā)明,其目的在于,提供用于選擇硅烷系偶聯(lián)劑的參數(shù)以及包含由此獲得的硅烷系偶聯(lián)劑的蝕刻液組合物,所述硅烷系偶聯(lián)劑作為添加劑即使不進(jìn)行另外的實(shí)驗(yàn)確認(rèn)也具有在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻氮化物膜的效果和防蝕能力。此外,本發(fā)明的目的在于,提供一種以在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中能夠*選擇性蝕刻上述氮化物膜為特征的蝕刻液組合物。此外,本發(fā)明的目的在于,提供利用上述蝕刻液組合物的蝕刻方法。此外,本發(fā)明的目的在于,提供選擇上述蝕刻液組合物所包含的硅烷系偶聯(lián)劑的方法。解決課題的方法為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供一種蝕刻液組合物,其特征在于,包含磷酸、硅烷。蘇州性價(jià)比高的蝕刻液。安徽格林達(dá)蝕刻液聯(lián)系方式
????所述液體入口1處設(shè)有減壓閥12,所述蒸汽出口5處設(shè)有真空泵13、除霧組件3及除沫組件4,所述除霧組件3用于過(guò)濾分離器中閃蒸的蒸汽中的含銅液體,所述除沫組件4用于將經(jīng)除霧組件3除霧的氣體進(jìn)行除沫。含銅蝕刻液在加熱器11中進(jìn)行加熱,達(dá)到閃蒸要求的溫度,輸送至分離器,通過(guò)減壓閥12減壓,真空泵13對(duì)分離器內(nèi)抽氣,使分離器內(nèi)處于低壓狀態(tài),含銅蝕刻液在分離器內(nèi)發(fā)生閃蒸,閃蒸產(chǎn)生大量蒸汽,蒸汽中攜帶著大小不等的液滴,大液滴中含有銅,通過(guò)除霧組件3和除沫組件4對(duì)蒸汽進(jìn)行分離過(guò)濾,也可以防止大液滴從蒸汽出口5飛出,減少產(chǎn)品損失。在一個(gè)實(shí)施例中,如圖1所示,所述除霧組件3為設(shè)有多個(gè)平行且曲折的通道的折流板。液體在隨著氣體上升時(shí)會(huì)有慣性,因?yàn)橐后w與氣體的質(zhì)量不同,他們的慣性也不同,當(dāng)夾帶著液體的氣體以一定速度通過(guò)折流板曲折的通道時(shí),液體流動(dòng)的方向不斷在曲折的通道中發(fā)生變化,液體的慣性較大,依舊保持原來(lái)的運(yùn)動(dòng)方向,從氣體中脫離,撞擊折流板壁面從而被擋下,氣體則順利通過(guò)折流板通道排出,被擋下的液體在壁面上匯集成液流,因重力的作用從折流板上流下。在一個(gè)實(shí)施例中,如圖1所示,所述除沫組件4為絲網(wǎng)。因?yàn)槌F組件3中的撞擊過(guò)程。上海天馬用的蝕刻液蝕刻液推薦貨源京東方用的哪家的蝕刻液?
????內(nèi)部頂部?jī)蓚?cè)的震蕩彈簧件14,震蕩彈簧件14頂端的運(yùn)轉(zhuǎn)電機(jī)組13,運(yùn)轉(zhuǎn)電機(jī)組13頂端的控制面板15,內(nèi)部中間部位的致密防腐桿16和致密防腐桿16內(nèi)部?jī)?nèi)側(cè)的攪動(dòng)孔17共同組合而成,由于鹽酸硝酸具有較強(qiáng)的腐蝕性,常規(guī)的攪拌裝置容易被腐蝕,影響蝕刻液的質(zhì)量,用防腐蝕的聚四氟乙烯攪拌漿進(jìn)行攪拌,成本過(guò)高,且混合的效果不好,通過(guò)設(shè)置高效攪拌裝置2,該裝置通過(guò)運(yùn)轉(zhuǎn)電機(jī)組13驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤12,使旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤12帶動(dòng)高效攪拌裝置2進(jìn)行旋轉(zhuǎn)搖勻,同時(shí)設(shè)置的震蕩彈簧件14可通過(guò)驅(qū)動(dòng)對(duì)高效攪拌裝置2進(jìn)行震蕩搖勻,高效攪拌裝置2內(nèi)部的蝕刻液通過(guò)內(nèi)置的致密防腐桿16,致密防腐桿16內(nèi)部的攪動(dòng)孔17能夠使蝕刻液不斷細(xì)化均勻化,從而很好的防止了蝕刻液的腐蝕,且成本低廉,攪拌均勻效果較好。推薦的,注入量精確調(diào)配裝置是由鹽酸裝罐7內(nèi)部一側(cè)的嵌入引流口22,嵌入引流口22一端的負(fù)壓引流器21,負(fù)壓引流器21一端的注入量控制容器18,注入量控制容器18內(nèi)部?jī)?nèi)側(cè)的注入量觀察刻度線19和注入量控制容器18一側(cè)的限流銷20共同組合而成,現(xiàn)有的制備裝置無(wú)法對(duì)相關(guān)原料的注入量進(jìn)行精確控制,無(wú)法很好的保證蝕刻液制備的純度,通過(guò)設(shè)置注入量精確調(diào)配裝置。
????本實(shí)用涉及蝕刻設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種ito蝕刻液制備裝置。背景技術(shù):蝕刻是將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù),蝕刻技術(shù)分為濕蝕刻和干蝕刻,其中,濕蝕刻是采用化學(xué)試劑,經(jīng)由化學(xué)反應(yīng)達(dá)到蝕刻的目的,薄膜場(chǎng)效應(yīng)晶體管液晶顯示器(tft~lcd)、發(fā)光二極管(led)、有機(jī)發(fā)光二極管(oled)等行業(yè)用作面板過(guò)程中銦錫氧化物半導(dǎo)體透明導(dǎo)電膜(ito)的蝕刻通常采用鹽酸和硝酸的混合水溶液?,F(xiàn)有的制備裝置在進(jìn)行制備時(shí)會(huì)發(fā)***熱反應(yīng),使得裝置外殼穩(wěn)定較高,工作人員直接接觸有燙傷風(fēng)險(xiǎn),熱水與鹽酸接觸會(huì)產(chǎn)生較為劇烈的反應(yīng),濺出容易傷害工作人員,保護(hù)性不足,鹽酸硝酸具有較強(qiáng)的腐蝕性,常規(guī)的攪拌裝置容易被腐蝕,影響蝕刻液的質(zhì)量,用防腐蝕的聚四氟乙烯攪拌漿進(jìn)行攪拌,成本過(guò)高,且混合的效果不好。所以,如何設(shè)計(jì)一種ito蝕刻液制備裝置,成為當(dāng)前要解決的問(wèn)題。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本實(shí)用新型的目的在于提供一種ito蝕刻液制備裝置,以解決上述背景技術(shù)中提出的ito蝕刻液制備裝置保護(hù)性不足、不具備很好的防腐蝕性和混合的效果不好的問(wèn)題。為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:一種ito蝕刻液制備裝置,包括制備裝置主體、高效攪拌裝置和過(guò)濾除雜裝置。蝕刻液的主要成分是什么?
????如前文所述,必須避免由該噴灑裝置50噴灑而出的藥液51滴入該基板20上而造成蝕刻不均的問(wèn)題,因此,該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121的孔徑a0必須要足夠小,例如:孔徑a0小于3mm,即可因毛細(xì)現(xiàn)象的作用,亦即該水滴于該宣泄孔121孔洞內(nèi)的夾角θ等于該水滴與該第二擋板12的該上表面123所夾的接觸角θ4,而達(dá)到防止位于該第二擋板12的該上表面123的藥液51水滴經(jīng)由該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121滴下至該基板20上(如圖9所示)。再者,請(qǐng)?jiān)賲㈤唸D10至圖12所示,為本實(shí)用新型蝕刻設(shè)備其二較佳實(shí)施例的擋液板結(jié)構(gòu)結(jié)合風(fēng)刀裝置示意圖、其三較佳實(shí)施例的擋液板結(jié)構(gòu)結(jié)合風(fēng)刀裝置示意圖,以及宣泄孔的表面張力局部放大圖,其中該宣泄孔121為直通孔與斜錐孔混合的態(tài)樣(如圖10所示),或是全部為斜錐孔的態(tài)樣(如圖11所示),其中該宣泄孔121具有一***壁面1211與一第二壁面1212,且該第二擋板12具有一下表面122,當(dāng)該宣泄孔121為斜錐孔的態(tài)樣時(shí),該***壁面1211與該下表面122的***夾角θ1不同于該第二壁面1212與該下表面122的第二夾角θ2,亦即該***壁面1211與該第二壁面1212可不互相平行,但應(yīng)避免該***夾角θ1與該第二夾角θ2差距過(guò)大而造成毛細(xì)現(xiàn)象破除;此外,當(dāng)該宣泄孔121為斜錐孔態(tài)樣時(shí)。哪家公司的蝕刻液的是口碑推薦?佛山市面上哪家蝕刻液訂做價(jià)格
銅蝕刻液的配方是什么?安徽格林達(dá)蝕刻液聯(lián)系方式
????以及一設(shè)置于基板下方的第二風(fēng)刀,其中***風(fēng)刀與第二風(fēng)刀分別吹出一氣體至基板。如上所述的蝕刻設(shè)備,其中蝕刻設(shè)備可進(jìn)一步設(shè)置有一噴灑裝置,噴灑裝置相對(duì)于風(fēng)刀裝置一端而設(shè)置于擋液板結(jié)構(gòu)的另一端部。如上所述的蝕刻設(shè)備,其中噴灑裝置噴灑一藥液至基板上。如上所述的蝕刻設(shè)備,其中擋液板結(jié)構(gòu)與基板的垂直距離介于8mm至15mm之間。如上所述的蝕刻設(shè)備,其中滾輪呈順時(shí)針?lè)较蜣D(zhuǎn)動(dòng),并帶動(dòng)基板由噴灑裝置下端部朝向風(fēng)刀裝置的***風(fēng)刀下端部的方向移動(dòng)。如上所述的蝕刻設(shè)備,其中氣體遠(yuǎn)離***風(fēng)刀與第二風(fēng)刀的方向分別與基板的法線方向夾設(shè)有一第三夾角。如上所述的蝕刻設(shè)備,其中第三夾角介于20度至35度之間。再者,為了達(dá)到上述實(shí)施目的,本實(shí)用新型另研擬一種蝕刻方法,于一濕式蝕刻機(jī)的一槽體內(nèi)運(yùn)行;首先,設(shè)置一擋液板結(jié)構(gòu),其中擋液板結(jié)構(gòu)設(shè)置有復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔;接著,使用一設(shè)置于擋液板結(jié)構(gòu)下方的輸送裝置輸送一基板,以經(jīng)過(guò)一噴灑裝置進(jìn)行一藥液噴灑;接續(xù),使用一設(shè)置于擋液板結(jié)構(gòu)下方的風(fēng)刀裝置對(duì)基板吹出一氣體,以使基板干燥;***,氣體經(jīng)由宣泄孔宣泄。如上所述的蝕刻方法。安徽格林達(dá)蝕刻液聯(lián)系方式
Copyright©2025 版權(quán)所有 All Rights Reserved 深圳市優(yōu)朗貿(mào)易有限公司 網(wǎng)站地圖 移動(dòng)端